表面处理探头—用于表面处理技术的氧气测量探头

表面处理探头—用于表面处理技术的氧气测量探头 
    表面热处理工艺中，如渗碳、渗氮、探氢共渗或者喷镀工艺中使用的表面热处理设备，起控制参数常常凭经验确定。  
    根据以往的的实践，进行金属部件表面硬化处理热处理时喷射到基材表面的材料，其数量是相当可观的，如果工艺参数没有进行优化配置，则喷射材料的质量就达不到质量要求，结果生产成本就很高，使用经验参数控制的生产工艺常常依赖于对这一技术熟练的操作工人，一旦操作工人发生更换，则这些参数又得重新确定，而且，表面处理的工艺参数还受施工设备运行的影响，并受处理工件不同材质的制约。  
    因此，只有使用探测技术，客观的确定氧化、渗碳、渗氮的工作参数，才有可能形成一种可以重复生产的表面处理技术，使产品质量始终符合ISO9000质量体系认证。  
    使用现场探测器可以降低生产成本，因为在这种情况下只有保证产品最佳质量所需要的那部分工艺气体导入表面处理过程。  
    除此以外，探测器使用对环境保护也具有积极意义，因为有些工艺气体（如甲烷和氨气）对环境具有潜在的有害影响。只有使用在线探测器，才能把控制过程所需要的时间延迟降低到最小程度，另外，气体成分也不会由于冷却作用的影响而发生改变，而这种情况在虹吸装置中会发生，但与虹吸装置相反，现场探测器不需要维护，通过对探测器进行优化设置后，用户的探测系统便可长期使用，无需校验。  
探头：  
Q－ probe:　该探测器确定氧化、渗碳、渗氮工艺中的氧化还原比，渗氮工艺中，Q-probe型探头测量不同工作温度是非均衡条件下在工件上的氮气，在渗碳工艺中，Q-probe可作为碳传感器使用，测定炉气的氧化还原系数。  
QE－probe: (化学平衡中的比例测定探测器):这种检测器用于渗碳和碳氢共渗工艺，确定特种催化剂完全分解后的氨气浓度，当这种探测器和Q-probe配合使用，可确定渗氮工艺特性参数。
真空探头: 用于真空系统中　（PVD处理、等离子渗氮工艺）的氧气浓度。  
型号 
Q-probe  SS20Q-xxxx
QE-probe   SS20QE-xxxx
真空探头 XX22H-xxxx  
性能
带保护管 
带保护管和加热催化剂 
加热探头    (He泄漏率低于  < 10-7 mbar/ s-1)  
应用领域
氧化以及还原性气体 
氧化以及还原性气体 
氧化以及还原性气体  
传感器类型
密封型传感器 (2) 
密封型传感器 (2) 
密封型传感器 (2)  
工作温度
570...800 °C 氧化环境      570...1100 °C 还原气氛中 
570...800 °C 氧化环境      570...1100 °C 还原气氛中 
0...800 °C 
探头长度
500...1000 mm 
500...1000 mm 
70...200 mm 
尺寸
25 mm 
25 mm 
10 mm 
防护等级
IP 56 
IP 56 
IP 56
特别性能
带冲洗气体接头 
需要校验 

型号	Q-probe SS20Q-xxxx	QE-probe SS20QE-xxxx	真空探头XX22H-xxxx
图例
性能	带保护管	带保护管和加热催化剂	加热探头 (He泄漏率低于  < 10-7 mbar/ s-1)
应用领域	氧化以及还原性气体	氧化以及还原性气体	氧化以及还原性气体
传感器类型	密封型传感器	密封型传感器 (2)	密封型传感器 (2)
工作温度	570...800 °C 氧化环境 570...1100 °C 还原气氛中	570...800°C 氧化环境570...1100 °C 还原气氛中	0...800 °C
探头长度	500...1000 mm	500...1000 mm	70...200 mm
尺寸	25 mm	25 mm	10 mm
防护等级	IP 56	IP 56	IP 56
特别性能	带冲洗气体接头		需要校验

注：(2) 测量气体和参考气体用密封陶瓷隔离 
应用: 
  保护和混合气体环境中的煺火处理 
  渗碳 
  渗氮、氧化渗氮、氨氮共渗、氢氮共渗工艺 
  等离子渗氮 
  PVD处理 
  微波溅射工艺 
  压力环境下测量氧