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英国牛津 等离子设备- Plasmalab 80Plus系列产品介绍
Plasmalab 80Plus是我公司专门为大学及研究机构设计的小型化产品，被广泛的应用于各种产品的研发以及小批量生产。它配置了直接开启式工艺平台，可以根据客户需要将它配置成RIE（反应离子刻蚀）、PE（等离子刻蚀）、PECVD（等离子增强型化学气相沉积）或ICP（感应耦合等离子高密度刻蚀）等模式，应用非常灵活。
Plasmalab 80Plus系列 - RIE（反应离子刻蚀）配置产品介绍
典型应用：
InP、GaAs、GaN等三五族材料的刻蚀 SiO2，SiNx刻蚀 各种金属刻蚀80Plus系列 - RIE（反应离子刻蚀）配置产品主要配置：
硬件和工艺全程自动化控制的基于Windows NT的PC2000控制软件，全部硬件和工艺均由计算机来控制，操作非常简便 RIE工艺真空腔，带有单个观察窗以及160mm直径大抽气管路，保证反应的副产物可以及时排出 205mm或240mm直径的温度可以调节的下电极，每批最大处理能力为9x2”、4x3”、2x4”、1x6”、1x8” 13.56MHz,30/300W的射频电源以及紧耦合、低损耗的自动匹配网络（Close-coupled Automatic Matching Network），更加保证了工艺的重复性 控制工艺气体流量及配比的外部Gas Pod，最多可配置6路气体管路，大大节约了净化间的面积 反应室真空压力自动控制系统（APC CM Gauge），保证工艺过程压力的稳定 大抽速防腐蚀机械泵和分子泵泵组，可以快速的达到工艺试验所需的真空环境80Plus系列 - RIE（反应离子刻蚀）配置产品选配件：
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