80Plus-RIE等离子设备性能特点![](http://www.94117.net/images/juhao.jpg)
英国牛津 等离子设备- Plasmalab 80Plus系列产品介绍
Plasmalab 80Plus是我公司专门为大学及研究机构设计的小型化产品,被广泛的应用于各种产品的研发以及小批量生产。它配置了直接开启式工艺平台,可以根据客户需要将它配置成RIE(反应离子刻蚀)、PE(等离子刻蚀)、PECVD(等离子增强型化学气相沉积)或ICP(感应耦合等离子高密度刻蚀)等模式,应用非常灵活。
Plasmalab 80Plus系列 - RIE(反应离子刻蚀)配置产品介绍
典型应用:
- InP、GaAs、GaN等三五族材料的刻蚀
- SiO2,SiNx刻蚀
- 各种金属刻蚀
80Plus系列 - RIE(反应离子刻蚀)配置产品主要配置:
- 硬件和工艺全程自动化控制的基于Windows NT的PC2000控制软件,全部硬件和工艺均由计算机来控制,操作非常简便
- RIE工艺真空腔,带有单个观察窗以及160mm直径大抽气管路,保证反应的副产物可以及时排出
- 205mm或240mm直径的温度可以调节的下电极,每批最大处理能力为9x2”、4x3”、2x4”、1x6”、1x8”
- 13.56MHz,30/300W的射频电源以及紧耦合、低损耗的自动匹配网络(Close-coupled Automatic Matching Network),更加保证了工艺的重复性
- 控制工艺气体流量及配比的外部Gas Pod,最多可配置6路气体管路,大大节约了净化间的面积
- 反应室真空压力自动控制系统(APC CM Gauge),保证工艺过程压力的稳定
- 大抽速防腐蚀机械泵和分子泵泵组,可以快速的达到工艺试验所需的真空环境
80Plus系列 - RIE(反应离子刻蚀)配置产品选配件:
- 激光干涉终点控制系统(End Point Detector),可以精确控制刻蚀的深度
- 65mm直径的ICP电源,可以大大提高产品的刻蚀速率同时减小刻蚀对产品的损伤
- 氮气手套箱(Glove Box)配置,可以防止腐蚀性气体对真空配件的腐蚀
|